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先端プロセスの"深水域"を越える：光学パーティクル監視と電気化学微量分析のデュアルエンジン戦略

3nm/2nmプロセスノードでは、単一のナノスケール粒子が数百万ドルの歩留まり損失を引き起こす可能性があります。Zolixtech は光学センサー（0.1μm@150psig）で物理的汚染物質を、電気化学分析計で微量化学不純物を捕捉するデュアルエンジンアプローチにより、ガスライン認証を14日以上から3日以内に短縮します。